首页
企业介绍
企业简介 企业资质
微纳镀膜
真空镀膜系统 镀膜系统零组件 真空相关耗材
锂电实验线
百克级电池实验线 锂/纳电池中试线
通用仪器
实验室常用设备 理化分析类 材料类 环境科学类 机械类
服务支持
销售平台 售后服务 在线留言
新闻中心
品牌资讯 公司动态 视频中心
英文
品牌资讯 公司动态 视频中心
原子层沉积技术（ALD）：原理、应用与未来发展

调价通知函_画板-1.jpg

了解更多
中国锂电池产业全景图：占全球70%产能背后的制胜法则
中国在锂电池技术领域已建立起全球领先的综合优势，涵盖产业链完整性、技术创新、规模效应和政策支持等多个维度。以下是主要优势的详细分析：1. 全产业链整合优势上游资源控制：中国通过海外···...
薄膜沉积设备的使用方法
物理气相沉积（PVD）设备使用方法使用前需检查真空系统完整性，确认机械泵、分子泵工作正常，腔体密封良好。打开主控界面，设定沉积参数：靶材类型（如铝、铜）、溅射功率（通常 100-500W）···...
化学气相沉积等设备的工艺流程
物理气相沉积（PVD）设备工艺流程物理气相沉积设备的工艺流程，开启于一个高度真空的环境。以常见的蒸镀为例，首先将待镀材料放置于蒸发源，如电阻加热装置或电子束蒸发源。当蒸发源被加热，···...
薄膜沉积设备的工艺流程（二）
低压化学气相沉积（LPCVD）设备工艺流程低压化学气相沉积设备是化学气相沉积的一种变体，在特定领域发挥重要作用。设备启动后，先将反应腔室抽至低压状态，一般压力范围在 1 - 1000Pa。相较···...
共224条 当前13/56页首页前一页···1112131415···后一页尾页

全国服务热线：

销售13774692374 | 售后0592－6380363

小红书二维码.jpg
抖音二维码.jpg
公众号二维码.jpg
企业介绍
企业简介 企业资质
微纳镀膜
真空镀膜系统 镀膜系统零组件 真空相关耗材
锂电实验线
百克级电池实验线 锂/纳电池中试线
通用仪器
实验室常用设备 理化分析类 材料类
服务支持
销售平台 售后服务 在线留言

微信客服

全国服务热线

13774692374