光伏领域：薄膜沉积设备的新赛道

光伏电池技术的快速迭代，推动薄膜沉积设备在钙钛矿、HJT 等新型电池中广泛应用。这类设备通过精准沉积透明导电氧化物（TCO）和钝化层，提升电池效率和稳定性。

一、钙钛矿电池的真空蒸镀技术

真空蒸镀设备通过加热蒸发 ITO 材料，在钙钛矿电池表面形成高纯度透明导电层。美能光伏的真空蒸镀系统采用双光束光学设计，可实时矫正 ITO 薄膜的吸光度变化，确保光电转换效率稳定在 25% 以上。2023 年全球钙钛矿电池设备市场规模达 10 亿美元，预计 2028 年将突破 50 亿美元。

厦门毅睿科技-芯壹方超高真空多腔体自动传输蒸镀/溅镀系统

二、HJT 电池的 PECVD 工艺

HJT 电池需在硅片正反面沉积 5-10nm 的本征非晶硅层和 TCO 层。PECVD 设备通过射频等离子体技术实现非晶硅层的低温沉积，板式 PECVD 设备的薄膜均匀性误差＜2%，已成为市场主流。迈为股份的 PECVD 设备支持 HJT 电池量产，2024 年新签订单达 8 亿元，预计 2025 年整线设备价格将降至 2.5 亿元 / GW。

厦门毅睿科技-芯壹方

电浆辅助化学气相沉积系统

三、薄膜硅太阳能电池的 ALD 应用

ALD 技术在薄膜硅电池中用于钝化层和窗口层沉积。例如，Al₂O₃钝化层可将表面复合速率降低至 10cm/s 以下，提升电池开路电压。多片批次热式 ALD 设备产能为同类竞品的 2-4 倍，已应用于国内头部光伏厂商，支持大面积薄膜硅电池生产。

厦门毅睿科技-芯壹方原子层沉积（ALD）系统

四、技术趋势与市场展望

钙钛矿 / 晶硅叠层电池的商业化推动薄膜沉积设备向多材料、多层沉积方向升级。例如，PVD 设备用于沉积银纳米线电极，ALD 设备用于界面修饰，两者结合可将电池效率提升至 30% 以上。根据 SEMI 预测，2025 年全球光伏薄膜沉积设备市场规模将突破 80 亿美元，中国占比超过 60%。

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