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原子层沉积技术(ALD):原理、应用与未来发展
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ECD设备:逻辑芯片铜互连到 TSV 通孔填充,溶液相沉积的产业化实践
在半导体制造的 “金属化赛道” 上,电化学沉积(ECD)设备以 “自下而上填充” 的独特优势,成为铜互连与先进封装的核心装备。SEMI 数据显示,2023 年全球 ECD 设备市场规模达 15 亿美元,···...
溶胶-凝胶技术:钙钛矿电池到柔性传感器,低温镀膜产业化路径
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激光脉冲沉积(PLD)设备以 “超快激光 + 原子溅射” 的独特机制,成为高介电常数(高 k)薄膜制备的首选方案。SEMI 数据显示,2024 年全球 PLD 设备市场规模达 8.5 亿美元,年复合增长率(···...
从氮化镓异质结到量子阱结构,解析分子束外延的纳米级控制密码
在半导体材料革新的浪潮中,分子束外延(MBE)设备以 “原子级精度” 成为第三代半导体异质结制造的核心装备。Yole 数据显示,2023 年全球 MBE 设备市场规模达 12 亿美元,同比增长 18%,其···...
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