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微波等离子体辅助原子层沉积系统（MPALD）

真空镀膜系统

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微波等离子体辅助原子层沉积系统

MPALD

原子层沉积系统

ALD

产品概述

厦门毅睿科技有限公司（芯壹方）自主研发生产的面向7nm以下先进工艺的微波等离子体辅助原子层沉积系统（MPALD），可实现＜±3%的均匀沉积，微波频率：2.45±0.025 GHz，微波功率:≥3KW连续可调。本项技术核心为自主设计的谐振导波腔，利用2.45GHz微波电源激发高密度、均匀的低温等离子体，实现了大尺寸晶圆条件下薄膜厚度和界面质量的精准可控，能够有效降低器件制造过程中界面缺陷及颗粒污染等问题。目前，本系统已与厦门大学、东南大学、中科院、福州大学、集美大学、台湾中兴大学、台湾暨南大学等高校深入合作，在高k栅介质、逻辑芯片超薄阻挡层等前沿工艺研究中获得良好应用反馈。

1、采用自主设计研发的导波共振腔与多频微波耦合，实现 12 英寸空间内等离子体密度均匀度≥99%，突破≥12 寸微波ALD沉积薄膜厚度不均难题。
2、基于石英隔离盘、金属天线网环与环状气体分散环协同设计，优化电磁场与气体等离子体分布，实现在＜100 ℃的低温下沉积氮化硅薄膜且薄膜折射率均匀差≤±2%。
3、该设备排气端集成双口径并联直角阀抽气模块，工艺阶段秒级切换抽速，每次切换比常规蝶阀快 5s，显著提升产能与薄膜质量。

产品特点