GM系列自动粉末原子层沉积设备可以在微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积或分子层沉积生长。
该系统具有专利粉末样品桶、动态粉末流化机构、全自动温度控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制等设计选项，是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料研究与应用的最佳研发工具。
产品优势：
•产品可定制，可批次化、规模化；
•独有的纳米级ALD粉体包覆技术，包覆更均匀，覆盖率更高，完整包覆超大比表面积材料；
•包覆材料品质优异，材料成分可实现原子层级别单相或多相设计；
•前后道工艺简洁、干净、安全，可广泛应用于多个领域。
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