MINI 科研桌式ALD
真空镀膜系统
产品概述
广泛应用于半导体、纳米催化剂、光学薄膜制备、航空航天、钙钵矿太阳能电池等
产品特点

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技术参数

MINI一款尺寸超小、操作简单、功能强大的桌面式原子层沉积系统,它可以在4寸晶元和微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积,具有广泛的应用领域。

系统具有专利粉未样品桶晶元载盘,全自动温控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制,是先进能源材料、新型纳米材料研究与应用的最佳研发工具

 

产品优势:

 

•小巧、安静、便捷;

•4组快拆式前驱体;

•全自动人机操作界面;

•抽屉式装载,人机交互简单便捷。




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