Description:
●低压溅镀沉积(10-4Torr)
●高质量、平滑、无针孔无针孔薄膜
●可实现<+/-3%的均匀沉积
●增强的附着力和微观结构控制
●极佳的覆盖效果高宽比特征
●独立控制离子束参数，使用户能够设计薄膜以获得所需的特性
●低能量离子辅助端霍尔离子源
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