Description:
●专为金属、电介质、氧化物、半导体和合金的沉积而设计，用于研发实验室和试生产应用
●可配置离子束清洗和离子辅助沉积(IAD)的离子源
●可实现<+/-3%的均匀沉积
●系统可配备不同的真空泵，用于高压和超高压
●多功能、操作简便、长期可靠，适用于单层和多层薄膜蒸发
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