RTR溅镀
真空镀膜系统
产品概述
产品特点

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技术参数


主辊直径1,000mm(φ) x600/1500mm(D)
真空室5 chambers (Unwind、Pre-Heat、Coating 、Cooling 、Rewind)
有效涂层宽度1,350mm/500mm
厚度15~250μm
速度0.5~20M/min
传输张力2~7Kg @1~3 m/min
对准≤±2mm@1~3m/min
溅射材料ITO 、Nb₂O5, 、SiO₂、Si、NbzOX、Cu
厚度均匀性≤±3%
靶材利用率70%
阴极Rotatable cathode 4~ 6 sets





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