热法原子层沉积系统(TALD)
真空镀膜系统
产品概述
产品特点

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技术参数

芯壹方大尺寸(300*400mm2)热原子层沉积系统

1. 全国最大尺寸研究型热原子层沉积设备

2. 专门为钙钛矿电池的电子及空穴传输层设计

3. 可在FTO玻璃上沉积均匀SnO2,NiO薄膜

4. 独特的分期盘结构以及快速真空泵设计

5. 配备O3管路,为低温NiO沉积提供思路

6. 大尺寸钙钛矿电池验证;与单晶硅串接电池研究,最好用最便宜的ALD机型



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