卷对卷电浆辅助化学气相沉积系统(PECVD)
真空镀膜系统
可定制
产品概述
Roll To Roll Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
产品特点

卷对卷电浆辅助化学气相沉积系统(PECVD)(1).png

技术参数

Roll To Roll Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

基板尺寸:Wide x L=30 mm x100M或其他

溅镀源:13.56 MHz RF 或2.45 GHz 微波

基板加温:Max800℃

自动传输制程





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