8 英寸电感耦合等离子原子层沉积系统(PEALD)
真空镀膜系统
产品概述
产品特点

peald.png

技术参数

衬底尺寸和类型

●8英寸晶圆

兼容多种基片:

光学玻璃(BK7、石英等)

硅片(Si)蓝宝石、氧化铝、金属薄片


前驱体管路

可搭载常用光学材料前驱体:TMA、 Mg(CP)2等6路

SF6、NH3、O2、Ar、N2、等反应气体

采用全氟化聚合物或镍合金管路,防腐蚀、防吸附设计


工艺温度

50-500℃ (650°℃加热盘可定制)

腔体与载盘独立控温,温度均匀性优于±1C


基片加载

自动升降式载台

可选配真空机械手与双腔预热模块


沉积材料

AlF3、MgF2、CaF2、LiF等光学增透膜、防反射层

AlN、SiNx等阻挡层、钝化层



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