●专为等离子体设备设计，实时监测反应腔内的放射光谱信号，用于分析等离子体状态、反应物浓度及工艺稳定性。
●系统可与 PEALD、PECVD、ICP刻蚀、溅射镀膜等设备联动，实现工艺过程的可视化与精准控制。
光谱范围
200-1025nm(覆盖紫外至近红外)
光学分辨率
1.1-1.5nm
信噪比
330:1
动态范围
1600
积分时间
200 μs - 30s可调
AD采样率
16-bit，2MHz高速采样
探测孔径
25 μm X 1mm
数据传输速度
480Mbps (USB 2.0转RJ45)
防溅镀结构
石英 /钛/不锈钢密封组件
准直镜
180°/90°可选
光纤类型
真空、大气两用光纤(200-1100nm,2m)
微信客服
全国服务热线
13774692374
返回
