反应式离子刻蚀系统
真空镀膜系统
可定制
产品概述
产品特点

反应式离子蚀刻系统(1).png

技术参数

Description:

●Source:ICP 13.56 MHz 1000-2000 W RF

●Bias: 13.56 MHz 300 W RF

●自动压力控制器

●2”-6” 水冷载台

●气体:H2,CF4,SF6,Ar, N2 . O2 ... etc.,


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