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原子层沉积技术（ALD）：原理、应用与未来发展

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热蒸发设备应用：实验室研发到特殊场景量产，低成本真空镀膜方案

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离子镀膜机技术：薄膜应力调控高附着力涂层，离子轰击的工艺价值

离子镀膜机通过高能离子轰击与薄膜沉积的协同作用，成为半导体涂层工艺的核心装备。2023 年全球离子镀膜机市场规模达 18 亿美元，年复合增长率（CAGR）达 15%，其技术优势在先进封装、功率器···...

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在半导体成熟制程领域，低压化学气相沉积（LPCVD）设备以 “高均匀性 + 低成本” 成为量产首选。SEMI 数据显示，2023 年全球 LPCVD 设备市场规模达 22 亿美元，其中中国市场占比 35%，主要用···...

AI 如何让薄膜沉积设备实现 “自感知、自优化、自维护”

在半导体制造的智能化转型中，AI 与薄膜沉积设备的深度融合正颠覆传统工艺逻辑。Gartner 数据显示，2024 年全球智能薄膜沉积设备市场规模达 38 亿美元，其中集成 AI 算法的设备占比超 40%，···...

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