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原子层沉积技术(ALD):原理、应用与未来发展
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显示技术:薄膜沉积设备的创新舞台
OLED 和 Mini/Micro LED 的快速发展,对薄膜沉积设备提出了更高要求。这类设备通过精准沉积有机材料、量子点和透明导电层,推动显示技术向高分辨率、高亮度方向演进。一、OLED 蒸镀的精密控···...
光伏领域:薄膜沉积设备的新赛道
光伏电池技术的快速迭代,推动薄膜沉积设备在钙钛矿、HJT 等新型电池中广泛应用。这类设备通过精准沉积透明导电氧化物(TCO)和钝化层,提升电池效率和稳定性。一、钙钛矿电池的真空蒸镀技术···...
先进封装:薄膜沉积设备的新蓝海
随着 Chiplet 技术的兴起,先进封装(如 CoWoS、Fan-Out)成为半导体产业的新增长极。薄膜沉积设备在再分布层(RDL)、微凸块(Microbump)和钝化层制备中发挥着关键作用。厦门毅睿科技-芯壹···...
第三代半导体:薄膜沉积设备的新战场
碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等第三代半导体材料的崛起,正推动薄膜沉积设备技术迎来新变革。这类材料在高温、高压场景下的优异性能,对沉积工艺提出了更高要求。SiC 衬底的外延生长需在 1···...
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